1月14日消息（南山）昨日下午，晶圓代工龍頭臺(tái)積電舉辦法人說(shuō)明會(huì)。

臺(tái)積電在法人說(shuō)明會(huì)上透露，公司今年資本開支在400億美元~440億美元之間，繼續(xù)保持高速增長(zhǎng)。2021年，臺(tái)積電資本開支約300億美元，2019年時(shí)為149億美元。

這一數(shù)字傲視全球。三星、英特爾資本開支雖然創(chuàng)下新高，但只有280億美元和250億美元，均遠(yuǎn)低于臺(tái)積電。中國(guó)大陸的中芯國(guó)際，資本開支甚至出現(xiàn)下滑。此前據(jù)臺(tái)灣工研院的調(diào)查，中芯國(guó)際2021年資本支出為43億美元，相比2020年的57億美元大幅下降24%，是全球主要晶圓廠中唯一減少資本開支的廠商。

據(jù)悉，臺(tái)積電資本開支主要用于2nm等先進(jìn)工藝的投資，此外還有光罩等先進(jìn)封裝，以及對(duì)特殊工藝的投資。

2021年，臺(tái)積電7nm營(yíng)收占比為31%，5nm營(yíng)收占比為19%。先進(jìn)工藝的營(yíng)收占比已經(jīng)達(dá)到50%。

據(jù)悉，臺(tái)積電將在今年下半年量產(chǎn)3nm工藝，并在2023年量產(chǎn)3nm家族的N3E工藝。臺(tái)積電總裁魏哲家表示，3nm客戶“比預(yù)期多”。

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